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碳化硅陶瓷熱等靜壓燒結(jié)工藝

文章出處:原創(chuàng)網(wǎng)責(zé)任編輯:劉坤尚作者:劉坤尚人氣:-發(fā)表時(shí)間:2016-01-07 16:28:00【

  近年來,為進(jìn)一步提高碳化硅陶瓷的力學(xué)性能,研究人員進(jìn)行了碳化硅陶瓷的熱等靜壓工藝的研究工作。研究人員以B和C為添加劑,采用熱等靜壓燒結(jié)工藝,在1900℃便獲得高密度碳化硅燒結(jié)體。更進(jìn)一步,通過該工藝,在2000℃和138MPa壓力下,成功實(shí)現(xiàn)無添加劑碳化硅陶瓷的致密燒結(jié)。
  經(jīng)研究表明:當(dāng)SiC粉末的粒徑小于0.6μm時(shí),即使不引入任何添加劑,通過熱等靜壓燒結(jié),在1950℃即可使其致密化。如選用比表面積為24㎡/g的SiC超細(xì)粉,采用熱等靜壓燒結(jié)工藝,在1850℃便可獲得高致密度的無添加劑碳化硅陶瓷。另外,Al2O3是熱等靜壓燒結(jié)碳化硅陶瓷的有效添加劑。而C的添加對(duì)碳化硅陶瓷的熱等靜壓燒結(jié)致密化不起作用,過量的C甚至?xí)种铺蓟杼沾傻臒Y(jié)。

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